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珠三角真空镀膜:电子束加热蒸发源

* 来源: * 作者: * 发表时间: 2021-01-07 6:14:49 * 浏览: 0

珠三角防指纹珠三角真空镀膜设备主要类型有真空蒸发镀膜设备、磁控溅射镀膜设备、离子镀膜设备、化学气相沉积镀膜设备等  各类镀膜设备主要性能见表10-32~表10-35。。

珠三角PVD镀膜此装置在高温下,在硅基片上外延生长硅单晶膜可制作出均匀膜层,膜层厚度1mu,m~2mu,m。。

珠三角真空镀膜图10-9给出的是从一个小平面s到与s平面相平行的基片上的蒸发情况。

珠三角五金烤漆蒸发镀各种坩埚材料性能见表10-6。

珠三角表面处理各种蒸发器材料所适用的蒸发金属(膜材),其匹配性见表10-5。

这种反馈作用使电流局部集中    ③由于电流局部集中产生的焦耳热使阴极材料在此局部产生爆发性的等离子化而发射电子和离子,然后留下放电痕。同时放出熔融的阴极材料粒子。    ④发射的离子中的一部分被吸回阴极表面再次形成空间电荷层,产生强电场,又使新的功函数小的点开始发射电子。    这个过程反复进行,弧光辉点在阴极表面上激烈地、无规则地运动。弧光辉点过后,在阴极表面上留下分散的放电痕。研究结果表明,阴极辉点的数量一般与电流成正比增加,因此可以认为每一个辉点的电流是常数,并随阴极材料的不同而异,见表10-13。    上述阴极辉点极小,有关资料测定为1mu,m~100mu,m。所以辉点内的电流密度值可达105A/cmsup2,~107A/cmsup2,。这些辉点犹如很小的发射点,每个点的延续时间很短,约为几至几十微秒。在此瞬间过后,电流又分布到阴极表面的其他辉点上,建立起足够的发射条件,致使辉点附近的阴极材料大量蒸发,从而达到成膜的目的。

现在广泛使用的反应方式有加热分解、氧化、等离子体激发、光激发等各种反应方式及生成物见表10-18。。

表10-20给出了绝缘膜种类、制作方法及用途图10-31为热壁反应室结构简图,减压装置的工作压力为10Pa~1000Pa。。

    在超导领域,有快速蒸发、低温凝聚的InSb非晶超导膜,高纯度Nb超导溅射膜以及Nb-Ge系、Nb-(Cu)系、V-Hf-Zr系超导膜等  在声学应用方面,ZnO薄膜是一种优良的压电薄膜材料,它具有机电耦合系数大,温度性能好,容易在各种非压电基片上形成择优取向等优点。  除了上述应用之外,珠三角真空镀膜技术在激光同位素分离、复印技术、红外技术、包装、装饰、手工艺制品、催化以及敏感测量元件等方面都有重要的用途。。

空心钽管作阴极,膜材作阳极,置于真空室中用泵将真空室抽到高真空后,在钽管中通入少量的氩气,使真空室内保持1Pa~10-2Pa的真空度。这时在阴阳极之间加上引弧电源,点燃氩气。当电压达到点燃电压UB时,则氩气被电离。这样就在中空阴极内产生低压等离子体,直流放电电压约为100V~150V,电流只有几个安培。一旦氨气被电离,等离子体中正离子就会不断地轰击阴极钽管。当钽管上有8段受热达到工作温度2300K-2400K时,即可出现热电子发射,使放电转变到稳定状态,电压下降到30Vmdash,50v,同时使等离子电子束流增大到一定值。这时由空心阴极内引出的高密度等离子电子束在电场的作用下射向膜材,膜材被加热到蒸发温度,开始蒸发而沉积到基片上成膜。    这种蒸发源有如下特点:    a.空心阴极放电可形成密度很高的等离子体;且通过阴极的气体可大部分被电离。    b.阴极工作温度可达3200K,蒸发原子通过等离子区时,被等离子激发电离,其离化率可达20%。    c.阴极不易损坏,寿命较长;   d.可在气体辉光放电区内工作;稳定工作压力为1Pamdash,10-2Pa。